5nm太难!台积电5nm带来的频率提升仅15%

Katrina | 2018-05-10 00:02

现在,台积电以及三星已经开始量产7nm,但Intel的10nm仍然在跳票当中。三星和台积电当然不会等Intel,5nm也应该要提上日程了,日前台积电公开了部分5nm工艺制程的相关规格,但看上去并不如理想。

台积电5nm工艺将会使用荷兰ASML Twinscan NXE:3400 EUV光刻机系统,进一步加大EUV的适用范围,相比7nm晶体管密度可以增加80%,从参数上看性能本应该有相当大幅度的提升。但是,5nm所带来的频率提升实际上只有15%,功耗也智能降低20%左右。

由于新技术尚不成熟,不管是技术、成本还是生产良率,都不能满足量产的需求,所以采用5nm工艺制程的新品不会在近期内推出。不过,明年台积电的第二代7nm将会尝试使用EVU极紫外光刻系统,提升工艺,晶体管密度可以在第一代的基础上增加20%。

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